[发明专利]修整盘及其制备方法、化学机械抛光设备在审

专利信息
申请号: 202111599641.X 申请日: 2021-12-24
公开(公告)号: CN114227557A 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 王垚 申请(专利权)人: 西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司
主分类号: B24D18/00 分类号: B24D18/00;B24B37/14;C23C14/16;C23C14/34;C23C28/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 张博
地址: 710000 陕西省西安市*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明提供了一种修整盘及其制备方法、化学机械抛光设备,属于半导体技术领域。修整盘的制备方法,包括:在修整盘的基底表面进行亲碳金属元素的沉积,使得所述亲碳金属元素与所述基底之间发生金属互扩散,在所述基底表面形成亲碳金属层;利用电镀或化学镀方法在所述亲碳金属层的表面涂覆金刚石颗粒。本发明的技术方案能够有效提高金刚石颗粒与修整盘基底的结合强度,进而提高修整盘的使用寿命。
搜索关键词: 修整 及其 制备 方法 化学 机械抛光 设备
【主权项】:
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