[发明专利]功率MOSFET的高可靠性封装结构及封装工艺在审

专利信息
申请号: 202111553018.0 申请日: 2021-12-17
公开(公告)号: CN114256172A 公开(公告)日: 2022-03-29
发明(设计)人: 丁浩宸;杨超;陈志阳;徐彩云 申请(专利权)人: 无锡惠芯半导体有限公司
主分类号: H01L23/367 分类号: H01L23/367;H01L23/495;H01L23/498;H01L23/50
代理公司: 苏州国诚专利代理有限公司 32293 代理人: 韩凤
地址: 214035 江苏省无锡市滨湖*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种功率MOSFET的高可靠性封装结构及封装工艺,该结构包括MOSFET芯片、第一互连层、底覆铜陶瓷基板、第二互连层、顶覆铜陶瓷基板、引线框架、灌封胶和管壳。本发明将标准TO封装中的铜基板替换为三层结构的底覆铜陶瓷基板,将键合铝线互连以顶覆铜陶瓷基板的铜布线层互连替代。一方面通过双基板外金属层裸露于管壳表面,直接与散热器相连构成双面散热结构,减小MOSFET的封装热阻,另一方面以铜层互连替代键合线可以减小功率回路电感,同时陶瓷层的引入提升器件结构对热膨胀的耐受力,并以石墨烯材料的高导热性能提升器件散热效率,从而提高功率MOSFET的可靠性。
搜索关键词: 功率 mosfet 可靠性 封装 结构 工艺
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡惠芯半导体有限公司,未经无锡惠芯半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111553018.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top