[发明专利]一种二次曲面反射镜拼接干涉检测子孔径规划方法及系统有效
| 申请号： | 202111548383.2 | 申请日： | 2021-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN114252244B | 公开（公告）日： | 2022-09-20 |
| 发明（设计）人： | 闫力松;张誉馨;王超凡;马冬林 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 徐美琳 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种二次曲面反射镜拼接干涉检测子孔径规划方法及系统，属于先进光学系统技术领域，该方法通过将实际问题抽象为数学模型，利用曲面积分求解球面波前到曲面上各点光程差的平方和，使其取到最小值求出球心的最佳位置。利用该方法可以实现对二次曲面反射镜的子孔径规划，利用子孔径完成对待测非球面反射镜的全口径覆盖，同时避免了子孔径检测时标准球面波前与非球面子孔径间偏离量大导致测试条纹密度过大的问题。同时利用上述方法可以精确求得各子孔径测试时标准球面波前的球心位置及测试角度，即得到球面波前的最优位置。本发明可以进一步完善子孔径拼接检测方法，为现代先进光学系统的制造开发提供保证，可以提高光学检测的精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 二次曲面 反射 拼接 干涉 检测 孔径 规划 方法 系统 | ||
【主权项】：
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