[发明专利]一种氧化镓晶片防解理的边缘磨削方法在审

专利信息
申请号: 202111504627.7 申请日: 2021-12-10
公开(公告)号: CN114161258A 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: 张弛;李晖;霍晓青;高飞;王磊;张胜男;高鹏程;王淳;李响 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十六研究所
主分类号: B24B9/06 分类号: B24B9/06;B24B41/06;B24B41/00;B24B41/04;H01L21/463
代理公司: 天津中环专利商标代理有限公司 12105 代理人: 王凤英
地址: 300220*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了一种氧化镓晶片防解理的边缘磨削方法。该方法是在不直接接触晶片的情况下将易解理的晶片边缘进行磨削,对氧化镓晶片磨削之前采用承载氧化镓晶片,且与氧化镓晶片粘接为一体的保护基板,用于防止氧化镓晶片在边缘磨削过程中出现解理,其中包括用于承载晶片具有一定刚度的保护基板,采用本发明能够解决氧化镓晶片在边缘磨削过程中易解理的问题,同时设计的方法简单,承载氧化镓晶片的基板能够重复使用,又便于操作。
搜索关键词: 一种 氧化 晶片 解理 边缘 磨削 方法
【主权项】:
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