[发明专利]大空间位阻侧链型聚烯烃基阴离子交换膜的制备方法有效
申请号: | 202111501429.5 | 申请日: | 2021-12-09 |
公开(公告)号: | CN114316334B | 公开(公告)日: | 2023-02-28 |
发明(设计)人: | 张小娟;郭嘉乾;方长青;李南文;刘磊;祝萌;张民 | 申请(专利权)人: | 西安理工大学 |
主分类号: | C08J7/12 | 分类号: | C08J7/12;C08J5/22;C08L25/08;C08F212/12;C08F214/16;H01M8/1088;H01M8/1072 |
代理公司: | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人: | 涂秀清 |
地址: | 710048 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了大空间位阻侧链型聚烯烃基阴离子交换膜的制备方法,采用格式反应制备出大空间位阻基可聚合单体,再与11‑溴‑1‑十一烯单体进行齐格勒‑纳塔配位聚合,制备了含有大空间位阻的聚烯烃共聚物,之后在非均相条件下将之季铵盐化,得到季铵盐化聚烯烃基阴离子交换膜;具体按照如下步骤进行:步骤1:大空间位阻型叔丁基化合物的制备;步骤2:大空间位阻侧链型聚烯烃化合物的合成;步骤3:大空间位阻侧链型聚烯烃阴离子交换膜的制备;本发明制备方法制备出高机械强度、长寿命的大空间位阻侧链型聚烯烃基阴离子交换膜,在碱性氢气/氧气燃料电池聚电解质膜领域具有广泛的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 间位 阻侧链型聚 烯烃 阴离子 交换 制备 方法 | ||
【主权项】:
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