[发明专利]大空间位阻侧链型聚烯烃基阴离子交换膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 202111501429.5 申请日: 2021-12-09
公开(公告)号: CN114316334B 公开(公告)日: 2023-02-28
发明(设计)人: 张小娟;郭嘉乾;方长青;李南文;刘磊;祝萌;张民 申请(专利权)人: 西安理工大学
主分类号: C08J7/12 分类号: C08J7/12;C08J5/22;C08L25/08;C08F212/12;C08F214/16;H01M8/1088;H01M8/1072
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 涂秀清
地址: 710048 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了大空间位阻侧链型聚烯烃基阴离子交换膜的制备方法,采用格式反应制备出大空间位阻基可聚合单体,再与11‑溴‑1‑十一烯单体进行齐格勒‑纳塔配位聚合,制备了含有大空间位阻的聚烯烃共聚物,之后在非均相条件下将之季铵盐化,得到季铵盐化聚烯烃基阴离子交换膜;具体按照如下步骤进行:步骤1:大空间位阻型叔丁基化合物的制备;步骤2:大空间位阻侧链型聚烯烃化合物的合成;步骤3:大空间位阻侧链型聚烯烃阴离子交换膜的制备;本发明制备方法制备出高机械强度、长寿命的大空间位阻侧链型聚烯烃基阴离子交换膜,在碱性氢气/氧气燃料电池聚电解质膜领域具有广泛的应用前景。
搜索关键词: 间位 阻侧链型聚 烯烃 阴离子 交换 制备 方法
【主权项】:
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