[发明专利]真空规颗粒阻挡结构在审
| 申请号： | 202111468150.1 | 申请日： | 2021-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN114264403A | 公开（公告）日： | 2022-04-01 |
| 发明（设计）人： | 刘旭强;林立男;陶硕;张琳琳;高乐;唐嫒尧;廖兴才 | 申请（专利权）人： | 北京晨晶精仪电子有限公司 |
| 主分类号： | G01L21/00 | 分类号： | G01L21/00 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 白袖龙 |
| 地址： | 101200 北京市平谷区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及真空度测量技术领域，提供一种真空规颗粒阻挡结构，包括壳体、基层挡板和至少一层叠加层挡板，壳体的一侧适于固定薄膜电极，壳体的另一侧形成有空气通道；基层挡板设置在壳体内靠近空气通道一侧，并与壳体固定连接，基层挡板上设置有第一通气口，第一通气口在垂直于空气通道的延伸方向上与空气通道错位设置；叠加层挡板设置在基层挡板靠近薄膜电极的一侧，并与壳体固定连接，叠加层挡板上设置有第二通气口，第二通气口在垂直于空气通道的延伸方向上与第一通气口错位设置。本发明提供的真空规颗粒阻挡结构，基层挡板和叠加层挡板共同作用，对薄膜电极起到良好的防护作用，有效避免颗粒物到达薄膜电极并在薄膜电极上沉积。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 颗粒 阻挡 结构 | ||
【主权项】：
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