[发明专利]制备柱状间隔物的方法在审
| 申请号： | 202111464482.2 | 申请日： | 2016-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN114114761A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 金莲玉;朴锡凤;崔庆植;李秀敏 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料韩国有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1339 | 分类号： | G02F1/1339;G02F1/13 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;胡嘉倩 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 制备柱状间隔物的方法。提供了一种制备柱状间隔物的方法，所述方法包含使用具有图案的掩模用光照射感光性树脂组合物的涂膜，然后进行显影，其中所述掩模包含(1)用于形成所述间隔物部分的第一图案；(2)用于形成所述基质部分的第二图案；(3)位于所述第一图案与所述第二图案之间的边界处的第三图案，所述第三图案的宽度是所述第一图案的宽度的14％到60％,以及所述掩模的所述第三图案在所述柱状间隔物的所述基质部分与所述间隔物部分之间的边界处形成从所述基质部分凹入的谷,所述第二图案的透光率是所述第一图案的透光率的15％到25％，并且所述第三图案的透光率是所述第二图案的透光率的0％到25％。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 柱状 间隔 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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