[发明专利]发声装置在审
| 申请号: | 202111447533.0 | 申请日: | 2021-11-30 |
| 公开(公告)号: | CN114157955A | 公开(公告)日: | 2022-03-08 |
| 发明(设计)人: | 任超;李杰;郭晓冬 | 申请(专利权)人: | 歌尔股份有限公司 |
| 主分类号: | H04R1/10 | 分类号: | H04R1/10;H05K9/00 |
| 代理公司: | 北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙) 11442 | 代理人: | 蔡兴兵 |
| 地址: | 261031 山东省潍*** | 国省代码: | 山东;37 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本申请公开了一种发声装置,包括:壳体,所述壳体内限定有安装腔室;发声单体,所述发声单体设于所述安装腔室内;电源,所述电源设于所述安装腔室内并邻近所述发声单体设置;蔽磁部,所述蔽磁部设在所述发声单体和所述电源之间,所述蔽磁部的漏磁区域的导磁密度小于等于2300高斯。根据本申请实施例的发声装置,通过在发声单体和电源之间设置蔽磁部,可以控制蔽磁部的漏磁区域的导磁密度小于等于2300高斯,从而会减少发声单体的磁路系统产生的磁场对电源工作稳定性的影响,同时也能减少电源对于发声单体的性能的影响,进而可以提升发声装置的发声稳定性,提升发声装置的音质效果。 | ||
| 搜索关键词: | 发声 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于歌尔股份有限公司,未经歌尔股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111447533.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。





