[发明专利]一种ICP刻蚀机在审
| 申请号： | 202111441533.X | 申请日： | 2021-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN114156155A | 公开（公告）日： | 2022-03-08 |
| 发明（设计）人： | 罗凯;王子荣;全明 | 申请（专利权）人： | 广东中图半导体科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 薛学娜 |
| 地址： | 523000 广东省东莞市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明属于刻蚀设备技术领域，公开了一种ICP刻蚀机。该ICP刻蚀机包括底座、下支架、上支架、上盖、调整环、导流板和线圈；下支架安装在底座上，上支架安装在下支架上，上盖安装在上支架上，线圈安装在上盖上；上盖、上支架内壁、下支架内壁和底座共同围设形成封闭的空腔；上盖还具有进气孔；导流板置于调整环上，调整环用于带动导流板沿靠近或远离底座移动；导流板用于将空腔分割为第一腔室和第二腔室，导流板具有若干个流道孔，第一腔室和第二腔室通过流道孔连通。通过本发明，可以实现放电间隙的调节和流场分布的调整；节省能源、提升效率和提高刻蚀质量；同时也能减少对上支架的刻蚀损害，提升刻蚀机的寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 icp 刻蚀 | ||
【主权项】：
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