[发明专利]一种基于三光源显微系统的表面微缺陷定位与识别方法有效

专利信息
申请号: 202111428145.8 申请日: 2021-11-29
公开(公告)号: CN114113112B 公开(公告)日: 2023-08-18
发明(设计)人: 程健;尹朝阳;陈明君;赵林杰;袁晓东;郑万国;廖威;王海军;张传超 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: G01N21/88 分类号: G01N21/88;G01N21/01
代理公司: 黑龙江立超同创知识产权代理有限责任公司 23217 代理人: 杨立超
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 一种基于三光源显微系统的表面微缺陷定位与识别方法,涉及工程光学技术领域,用以解决现有技术对于大口径光学元件表面微缺陷不能准确识别和定位不精确的问题。本发明的技术要点包括:获取元件表面多个缺陷区域的初始位置;对于每个缺陷区域,利用吹尘前后的图像初步排除伪缺陷;对于保留的每个缺陷区域,利用预训练的缺陷预测模型进行预测,二次排除伪缺陷;对于经过二次排除后保留的每个缺陷区域,采用改变物距的自动聚焦方法和基于图像处理的缺陷目标提取方法对缺陷区域的初始位置进行修正,获取多个缺陷区域的精确位置。本发明排除了伪缺陷的干扰,并进一步提升了元件表面缺陷的定位精度,可为后续缺陷修复提供可靠数据支撑。
搜索关键词: 一种 基于 光源 显微 系统 表面 缺陷 定位 识别 方法
【主权项】:
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