[发明专利]CVD真空设备及立卧切换实现方法

摘要

本发明公开了一种CVD真空设备及立卧切换实现方法，本发明将炉体配置成能够随支撑架摆转的炉体，炉体的摆转范围是90度，从而恰好适配于立式状态与卧式状态转换所需要的角度。炉体具有上炉门和下炉门，其中，下炉门在卧式状态时处于开启的状态，而在立式状态时基于炉体的摆转实现下炉门与炉体间的结合。在卧式状态下，取放料可以在水平方向上完成，而在立式状态下，取放料可以自下炉门进行，操作相对简便，因此除了针对不同的CVD工艺具有较好的适应性外，取放料也相对简便。