[发明专利]综合孔径辐射计波数域近场成像方法及设备在审

专利信息
申请号: 202111381927.0 申请日: 2021-11-19
公开(公告)号: CN114200448A 公开(公告)日: 2022-03-18
发明(设计)人: 胡飞;付鹏;朱冬;苏金龙 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G01S13/90 分类号: G01S13/90;G01S13/88;G06F17/14
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 胡秋萍
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种综合孔径辐射计波数域近场成像方法及设备,属于毫米波辐射探测领域,方法包括:利用综合孔径辐射计的天线阵列测量近场目标区域的亮温分布,以生成相应的四维近场可见度函数;对四维近场可见度函数进行傅里叶变换以实现波数域分解,得到四维近场可见度函数中的四维波数域信息;对四维波数域信息进行距离向相位补偿以去除距离向耦合,得到二维波数域数据;对二维波数域数据进行傅里叶变换或傅里叶反变换,以生成近场目标区域的反演图像。实现综合孔径毫米波辐射计平面阵列近场高分辨率、高精度、大视场成像,以及实现综合孔径无距离信息近场成像,推动综合孔径被动毫米波成像技术在近场成像领域中的应用。
搜索关键词: 综合 孔径 辐射计 波数域 近场 成像 方法 设备
【主权项】:
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