[发明专利]一种氟化钡基底复合增透膜及其结构设计方法有效
申请号: | 202111352702.2 | 申请日: | 2021-11-16 |
公开(公告)号: | CN113900165B | 公开(公告)日: | 2023-09-22 |
发明(设计)人: | 孙鹏;刘华松;季一勤;刘丹丹;何家欢;冷健;杨明;顿世杰 | 申请(专利权)人: | 天津津航技术物理研究所 |
主分类号: | G02B1/115 | 分类号: | G02B1/115 |
代理公司: | 天津市鼎拓知识产权代理有限公司 12233 | 代理人: | 刘雪娜 |
地址: | 300000 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
本申请提供一种氟化钡基底复合增透膜及其结构设计方法,其中所述复合增透膜的基本膜系结构为:Sub/γF(α |
||
搜索关键词: | 一种 氟化钡 基底 复合 增透膜 及其 结构设计 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津津航技术物理研究所,未经天津津航技术物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111352702.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。