[发明专利]一种氟化钡基底复合增透膜及其结构设计方法有效

专利信息
申请号: 202111352702.2 申请日: 2021-11-16
公开(公告)号: CN113900165B 公开(公告)日: 2023-09-22
发明(设计)人: 孙鹏;刘华松;季一勤;刘丹丹;何家欢;冷健;杨明;顿世杰 申请(专利权)人: 天津津航技术物理研究所
主分类号: G02B1/115 分类号: G02B1/115
代理公司: 天津市鼎拓知识产权代理有限公司 12233 代理人: 刘雪娜
地址: 300000 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 本申请提供一种氟化钡基底复合增透膜及其结构设计方法,其中所述复合增透膜的基本膜系结构为:Sub/γF(αiiL)n/Air(i=1,2,…,n,n≥5)其中,Sub代表基底材料BaF2,αi,βi代表1/4波长光学厚度的倍数,Air代表空气,H代表高折射率材料,L代表低折射率材料,F代表在所述基底材料表面制备的一层氟化物,γ为所述氟化物的1/4波长光学厚度的倍数;复合增透膜由高折射率材料和低折射率材料组成,形成近红外激光和长波红外光透过率高的增透膜,基底材料为氟化钡,在氟化钡上制备一层氟化物,两种氟化物结合使得增透膜和基底的结合更加牢固,增强了增透膜的可靠性。
搜索关键词: 一种 氟化钡 基底 复合 增透膜 及其 结构设计 方法
【主权项】:
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