[发明专利]一种基于高级氧化体系靶向降解新兴污染物的分子印迹聚合物及其制备方法与应用在审
| 申请号： | 202111329447.X | 申请日： | 2021-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN114225917A | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | 万金泉;陈华坚;马邕文;王艳;闫志成;谢咏昌 | 申请（专利权）人： | 华南理工大学 |
| 主分类号： | B01J20/26 | 分类号： | B01J20/26;B01J20/30;C02F1/28;C02F1/72;C08F283/00;C08F220/06;C08F212/36 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 林奕聪 |
| 地址： | 510640 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基于高级氧化体系靶向降解新兴污染物的分子印迹聚合物及其制备方法与应用。本发明通过在制孔剂中加入新兴污染物和丙烯酸，预组装后，在保护气氛下加入MOFs、二乙烯基苯和偶氮二异丁腈，水浴反应；将反应后的混合物离心分离，洗涤，干燥得到分子印迹聚合物。本发明分子印迹聚合物可持续使用，经过多次利用后吸附活化效果依然很好，是一种环境友好型材料。该方法适用于多种新兴污染物，持久性好，催化时间短，操作方便，并且对污染物具有较高的降解效果，降低了污染物降解成本，在降解新兴污染物方面具有很大的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 高级 氧化 体系 靶向 降解 新兴 污染物 分子 印迹 聚合物 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华南理工大学，未经华南理工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111329447.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
