[发明专利]一种可实现单相固溶体高熵合金的电化学抛光方法在审

专利信息
申请号: 202111313402.3 申请日: 2021-11-08
公开(公告)号: CN113882013A 公开(公告)日: 2022-01-04
发明(设计)人: 董多;李旭敏;王晓红;朱冬冬;马腾飞;张元祥;周兆忠 申请(专利权)人: 衢州学院
主分类号: C25F3/22 分类号: C25F3/22
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 傅朝栋;张法高
地址: 324000 *** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种可实现单相固溶体高熵合金的电化学抛光方法,具体是将耐蚀元素(Mo元素)的高熵合金在常温下进行电化学抛光,以FeCoCrNiMo合金为研究对象,在常压下Mo的不同含量和相同含量下的4GPa和7GPa的合金材料,与常温下电化学抛光后的合金材料进行扫描电镜(SEM)下的微观组织和元素分布图进行比对,研究单相固溶体高熵合金电化学抛光的结果。本发明在常温条件下研究单相固溶体高熵合金的电化学抛光方法,对于探索并建立单相固溶体的电化学抛光过程中一些基本理论,扩展单相固溶体电化学抛光耐腐蚀新材料的可能性具有极大的意义。
搜索关键词: 一种 实现 单相 固溶体 合金 电化学 抛光 方法
【主权项】:
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