[发明专利]一种基于神经网络的无标签反演光刻方法及系统在审
| 申请号: | 202111309008.2 | 申请日: | 2021-11-05 |
| 公开(公告)号: | CN114137793A | 公开(公告)日: | 2022-03-04 |
| 发明(设计)人: | 赵圆圆;陈经涛;段宣明 | 申请(专利权)人: | 暨南大学 |
| 主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F1/36;G06N3/04;G06N3/08 |
| 代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 禹小明 |
| 地址: | 510632 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 本发明涉及光学掩模设计技术领域,提出一种基于神经网络的无标签反演光刻方法及系统,其中包括以下步骤:构建光刻系统模型;基于Pytorch神经网络框架建立光刻系统层;获取现有目标布局作为数据样本组成训练集,并对所述目标布局进行数据增强处理;将Unet网络与所述光刻系统层连接组成自编码网络,将训练集输入所述自编码网络中进行训练,并基于BP算法对Unet网络的参数进行优化,得到完成训练的Unet网络;将目标布局输入完成训练的Unet网络中,输出得到无标签反演光刻合成掩模。本发明无需再通过传统ILT得到合成掩模作为数据标签,实现工作效率、图案保真度、掩膜的可制造性以及运行时间优于传统ILT技术。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 基于 神经网络 标签 反演 光刻 方法 系统 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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