[发明专利]具有弧形底角的凹槽的制备方法、MEMS麦克风的制备方法有效
| 申请号： | 202111303186.4 | 申请日： | 2021-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN113766412B | 公开（公告）日： | 2022-02-15 |
| 发明（设计）人： | 陈家伟;宋健 | 申请（专利权）人： | 绍兴中芯集成电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H04R31/00 | 分类号： | H04R31/00;H04R19/04;H04R19/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 田婷 |
| 地址： | 312000 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种具有弧形底角的凹槽的制备方法、MEMS麦克风的制备方法。通过等离子刻工艺使光刻胶层中的凹槽图形能够精确的复制至待刻蚀层中，并且随着刻蚀的进行使光刻胶层的光刻胶材料往窗口的方向延展，以自动缩减窗口的开口尺寸，从而能够随着光刻胶材料的延展而逐步形成具有弧形底角的凹槽。可见，本发明提供的凹槽的制备方法，不仅可以精确的控制所形成的凹槽尺寸，并可以自动形成弧形底角。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 弧形 底角 凹槽 制备 方法 mems 麦克风 | ||
【主权项】：
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