[发明专利]一种自由曲面基底多层衍射元件的优化设计方法在审
| 申请号： | 202111278315.9 | 申请日： | 2021-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN113970844A | 公开（公告）日： | 2022-01-25 |
| 发明（设计）人： | 毛珊 | 申请（专利权）人： | 西北工业大学 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00 |
| 代理公司： | 成都鱼爪智云知识产权代理有限公司 51308 | 代理人： | 兰小平 |
| 地址： | 710068 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提出了一种自由曲面基底多层衍射元件的优化设计方法，涉及光学技术领域。该自由曲面基底多层衍射元件的优化设计方法通过基于预置的自由曲面多层衍射元件结构建立对应的光路传输模型，然后根据对应的光路传输模型分析推导得出综合积分平均衍射效率计算公式，最后根据综合积分平均衍射效率计算公式对预置的自由曲面多层衍射元件结构的初始有效微结构高度进行优化计算，得到优化的有效微结构高度数值。能够改善基于传统标量衍射理论的计算不准确性，实现多层衍射光学元件的严格设计和衍射效率的准确分析，并且提高一般入射下任意基底宽波段多层衍射光学元件的衍射效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 自由 曲面 基底 多层 衍射 元件 优化 设计 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西北工业大学，未经西北工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111278315.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种卤香干加工用卤煮设备
- 下一篇：一种耐高温高压高绝缘的测温探头传感器
