[发明专利]一种去除扫描电镜中非导电样品荷电效应的方法在审
| 申请号： | 202111214492.0 | 申请日： | 2021-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN113945599A | 公开（公告）日： | 2022-01-18 |
| 发明（设计）人： | 刘陵恩;张跃飞;唐亮;张宜旭;郑坤;王永峰;佟翔宇;程晓鹏 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | G01N23/2251 | 分类号： | G01N23/2251 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 刘萍 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种去除扫描电镜中非导电样品荷电效应的方法涉及扫描电镜领域。为了在不镀膜的条件下看到绝缘样品的真实形貌而又不会产生荷电效应，本专利提出一种消除扫描电镜下观察非导电样品的方法并提出扫描电镜下观察非导电样品的装置。利用该方法可以有效的消除部分样品表面的荷电效应，达到清晰成像的目的。本发明不但省去了复杂的镀膜工艺而且可以在扫描电镜下清楚地反映出绝缘样品形貌。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 去除 扫描电镜 中非 导电 样品 效应 方法 | ||
【主权项】：
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