[发明专利]一种单晶XRD精修方法及其平台在审

专利信息
申请号: 202111197861.X 申请日: 2021-10-14
公开(公告)号: CN113945592A 公开(公告)日: 2022-01-18
发明(设计)人: 曹义明;张元磊;康艳茹;赵加旺;李佳丽;魏生贤;何禧佳;徐坤;李哲 申请(专利权)人: 曲靖师范学院
主分类号: G01N23/20 分类号: G01N23/20;G01N23/20008;G01N23/20025
代理公司: 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11465 代理人: 符继超
地址: 655011 云南省曲靖*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明公开了一种单晶XRD精修方法及其平台,该方法包括以下步骤:S1.数据处理;S2.寻找峰值;S21.初步判定;S22.获取第一判据;S23.获取第二判据;S24;S3.晶格常数和零点漂移计算;该平台包括:数据处理模块、寻峰模块和计算模块;所述寻峰模块包括初步判定单元、第一判据获取单元、第二判据获取单元和最终峰值获取单元;本发明能够精确地找到单晶XRD峰值,能够有效提高材料结构表征的准确性,对于晶体结构的表征有着非常大的帮助,并且该方法逻辑简捷,减少了计算的时间,提高了计算结果的准确性。
搜索关键词: 一种 xrd 方法 及其 平台
【主权项】:
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