[发明专利]一种基于单像素成像的光弹性法有效
| 申请号： | 202111167793.2 | 申请日： | 2021-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN113852747B | 公开（公告）日： | 2023-09-22 |
| 发明（设计）人： | 邓华夏;黄晓宇;高夕成;管擎天;马孟超;钟翔 | 申请（专利权）人： | 合肥工业大学 |
| 主分类号： | H04N23/55 | 分类号： | H04N23/55;H04N23/56;H04N23/95 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人： | 苗娟 |
| 地址： | 230009 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明的一种基于单像素成像的光弹性法，基于DMD的单像素成像光路，包括使用MATLAB预先生成傅里叶基底图；布置平面偏振光场，放置试件并对其施加压力；暗场下对试件上出现的光弹性条纹进行单像素成像，由光电探测器进行采样，使用台式万用表记录；在MATLAB中进行图像重建，得到六幅光弹性条纹图案；计算全场的等倾线和等差线参数，得到相位图。本发明通过引入单像素成像技术以替代CCD或CMOS这类相机，仅使用一个不具备空间信息分辨能力的单像素探测器即可进行成像，结构简单，其成像系统也无需复杂的透镜组，能够极大地简化光学设计。相较于阵列式的探测器，单像素探测器具有更高的量子效率、更低的暗噪声和更短的响应时间等优势，并且制造成本更低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 像素 成像 弹性 | ||
【主权项】：
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