[发明专利]纳米射流抛光装置有效
| 申请号： | 202111162876.2 | 申请日： | 2021-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN113829245B | 公开（公告）日： | 2023-04-11 |
| 发明（设计）人： | 彭文强;罗振兵;夏智勋;王林;邓雄;张鉴源 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科技大学 |
| 主分类号： | B24C5/04 | 分类号： | B24C5/04;B24C5/00;B24C7/00;B24C9/00;B24C11/00 |
| 代理公司： | 长沙国科天河知识产权代理有限公司 43225 | 代理人： | 周达 |
| 地址： | 410073 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 一种纳米射流抛光装置，所述射流机构，用于产生两股相位差180°的空气射流；所述掺混腔体喷嘴机构包括壳体，所述壳体设置在射流机构上方，壳体与射流机构之间设置有供空气进入射流机构其射流腔的空气进气口；壳体内设置有掺混腔，射流机构产生的两股相位差180°的射流从掺混腔的第一端进入，掺混腔的第二端设为掺混腔喷嘴出口，所述掺混腔的侧壁上设有供纳米颗粒流输入掺混腔的纳米颗粒流输送管道以及供水雾流输入掺混腔的水雾流输送管道。纳米颗粒流、水雾流以及两股相位差180°的空气射流在掺混腔内进行均匀掺混后从掺混腔喷嘴出口喷出并作用于工件表面，与工件表面发生弹性域内的摩擦碰撞而实现材料去除。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 射流 抛光 装置 | ||
【主权项】：
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