[发明专利]一种钴/氧化钴/还原氧化石墨烯复合材料及其制备方法、以及微波吸收剂在审
| 申请号： | 202111140279.X | 申请日： | 2021-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN114006174A | 公开（公告）日： | 2022-02-01 |
| 发明（设计）人： | 李青青;谭军 | 申请（专利权）人： | 季华实验室 |
| 主分类号： | H01Q17/00 | 分类号： | H01Q17/00 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人： | 晏波 |
| 地址： | 528200 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种钴/氧化钴/还原氧化石墨烯复合材料及其制备方法、以及微波吸收剂，涉及微波吸收材料技术领域。所述钴/氧化钴/还原氧化石墨烯复合材料包括微球以及包覆于所述微球表面的外壳，其中，所述微球的材质包括钴和氧化钴，所述外壳的材质包括钴、氧化钴和氧化还原石墨烯。通过将钴、氧化钴和RGO复合制成所述核壳结构，能有效调节阻抗匹配和衰减能力，并通过介电损耗和磁损耗的协同作用，得到了反射损耗强、具有覆盖整个X波段的超宽带宽的复合材料，使其能够作为低频微波吸收剂使用，且能应用于雷达隐身等方面。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氧化钴 还原 氧化 石墨 复合材料 及其 制备 方法 以及 微波 吸收剂 | ||
【主权项】：
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