[发明专利]匀场装置设计方法、系统、计算机设备和可读存储介质在审
| 申请号： | 202111109505.8 | 申请日： | 2021-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN115879253A | 公开（公告）日： | 2023-03-31 |
| 发明（设计）人： | 樊曼;刘曙光;杨绩文 | 申请（专利权）人： | 上海联影医疗科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20;G06F30/18;G06F113/16 |
| 代理公司： | 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 | 代理人： | 吴迪 |
| 地址： | 201807 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种匀场装置设计方法、系统、计算机设备和可读存储介质，该方法根据抗耦合线圈的能量和与抗耦合线圈的电流参数的关系，确定抗耦合线圈能量最大时的第一电流参数；根据匀场线圈的能量和匀场线圈的电流参数的关系，确定匀场线圈能量最小时的第二电流参数；根据第一电流参数确定抗耦合线圈的导线分布，根据第二电流参数确定匀场线圈的导线分布。使用本申请提供的匀场装置设计方法设计的匀场装置不会对匀场电源造成损坏，从而能够保证匀场装置的正常工作。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 设计 方法 系统 计算机 设备 可读 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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