[发明专利]一种固态前驱体源存储升华器有效
| 申请号: | 202111070284.8 | 申请日: | 2021-09-13 |
| 公开(公告)号: | CN113897593B | 公开(公告)日: | 2023-08-11 |
| 发明(设计)人: | 谈益强;朱梦玉;薛剑 | 申请(专利权)人: | 浙江陶特容器科技股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/52;C23C16/54 |
| 代理公司: | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人: | 汪利胜 |
| 地址: | 314400 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种固态前驱体源存储升华器,旨在解决固态前驱体源的挥发升华不稳定,固态前驱体源的利用率低的不足。该发明包括存储筒、安装在存储筒内的若干托盘、托盘依次上下堆叠在一起,托盘内设有若干周向间隔布设的分隔板,相邻两分隔板之间形成用于装载固态前驱体源的储料腔,分隔板上设有通气窗使相邻两储料腔连通,从而在托盘内形成一圈气道;一储料腔内设置隔离板,隔离板将该储料腔分成进气腔和出气腔,下一托盘上的出气腔与上一托盘上的进气腔连通,从而使所有托盘上的气道连通在一起形成通气流道;存储筒上设有载气进口和混合蒸汽出口,载气进口和混合蒸汽出口分别与通气流道的两端连通。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 固态 前驱 存储 升华 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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