[发明专利]化合物羟基四氟化三硼酸二胍和羟基四氟化三硼酸二胍非线性光学晶体及制备方法和用途有效

专利信息
申请号: 202111067408.7 申请日: 2021-09-13
公开(公告)号: CN113773231B 公开(公告)日: 2023-03-21
发明(设计)人: 潘世烈;金聪聪;米日丁·穆太力普 申请(专利权)人: 中国科学院新疆理化技术研究所
主分类号: C07C279/02 分类号: C07C279/02;C07C277/00;C07C277/06;C30B29/54;C30B7/04;C30B7/10;G02F1/355;G02F1/361
代理公司: 乌鲁木齐中科新兴专利事务所(普通合伙) 65106 代理人: 张莉
地址: 830011 新疆维吾尔*** 国省代码: 新疆;65
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摘要: 发明涉及一种化合物羟基四氟化三硼酸二胍及羟基四氟化三硼酸二胍非线性光学晶体及制备方法和用途,该化合物的化学式为[C(NH2)3]2[B3O3F4(OH)],分子量为293.61,采用蒸发法、水热法或室温溶液法制备;该晶体的化学式为[C(NH2)3]2[B3O3F4(OH)],分子量为293.61,晶体属三斜晶系,空间群P1,晶胞参数为a=6.9215(8)Å,b=7.0980(9)Å,c=7.2608(9)Å,α=97.600(4),β=107.689(4),γ=117.273(4),Z=1,V=286.12(6)Å3,采用蒸发法、水热法或室温溶液法生长晶体,通过该方法获得的[C(NH2)3]2[B3O3F4(OH)]非线性光学晶体,具有较宽的透光波段,物化性能稳定,机械硬度适中,不易碎裂,易于切割、抛光加工和保存等优点。
搜索关键词: 化合物 羟基 氟化 硼酸 非线性 光学 晶体 制备 方法 用途
【主权项】:
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