[发明专利]研磨用组合物在审
申请号: | 202111066252.0 | 申请日: | 2021-09-13 |
公开(公告)号: | CN114250059A | 公开(公告)日: | 2022-03-29 |
发明(设计)人: | 吉崎幸信;井川裕文 | 申请(专利权)人: | 福吉米株式会社 |
主分类号: | C09K3/14 | 分类号: | C09K3/14;C09G1/02;H01L21/02;B24B1/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
提供:硅锗的研磨速度充分高、硅锗的研磨速度的选择比充分高的研磨用组合物。一种研磨用组合物,其包含:磨粒、无机盐和氧化剂,前述磨粒的每单位表面积的硅烷醇基数超过0个/nm |
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搜索关键词: | 研磨 组合 | ||
【主权项】:
暂无信息
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