[发明专利]一种基于阿秒条纹重构非均匀场空间依赖系数的方法在审
| 申请号： | 202111051186.X | 申请日： | 2021-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN113849764A | 公开（公告）日： | 2021-12-28 |
| 发明（设计）人： | 王凤;熊章涛;廖青;张茹 | 申请（专利权）人： | 武汉工程大学 |
| 主分类号： | G06F17/11 | 分类号： | G06F17/11;G06F17/15;G06F17/18 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 崔友明 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种基于阿秒条纹重构非均匀场空间依赖系数的方法，针对现有技术中尚未得到研究的非均匀红外场辅助下的原子单光子电离过程，通过电子光辐射时间实现了重构非均匀红外场的空间依赖系数的功能。本发明反映了非均匀红外场辅助下原子单光子电离中电子的动力学过程。本发明用于实现对纳米结构附近等离子增强电场进行成像。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 条纹 重构非 均匀 空间 依赖 系数 方法 | ||
【主权项】：
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