[发明专利]一种1D/3D分等级异质结磁性半导体及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202111048476.9 申请日: 2021-09-08
公开(公告)号: CN113731499B 公开(公告)日: 2022-06-10
发明(设计)人: 刘世熙;孙彭亮;曹秋娥 申请(专利权)人: 云南大学
主分类号: B01J31/18 分类号: B01J31/18;B01J31/28;B01J27/188;B01J21/18;B01J37/10;B01J35/10;B01J37/34;B82Y30/00;B82Y40/00;C02F1/30;C02F101/30;C02F101/34;C02F101/38
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 刘丹丹
地址: 650091*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明提供了一种1D/3D分等级异质结磁性半导体及其制备方法和应用,属于纳米材料光催化技术领域。所述1D/3D分等级异质结磁性半导体整体包括碳纳米管和负载在所述碳纳米管上的HPWx/Fe2O3纳米材料;所述HPWx/Fe2O3纳米材料包括Fe2O3和固定于所述Fe2O3上的H3O40PW12.xH2O;所述Fe2O3为空心立方结构;所述1D/3D分等级异质结磁性半导体为仿生叶绿体结构。本发明能够克服现有氧化铁材料中光生电子‑空穴对分离效率低导致的光催化活性差的问题,得到的磁性半导体光催化活性好,能有效处理四环素废水。
搜索关键词: 一种 分等级 异质结 磁性 半导体 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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