[发明专利]一种含有氧化铝-碳化硼杂化颗粒的抛光液及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111008615.5 申请日: 2021-08-31
公开(公告)号: CN113563803A 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 雷红;代三威 申请(专利权)人: 昆山捷纳电子材料有限公司
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02
代理公司: 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 代理人: 曹利华
地址: 215300 江苏省苏州市昆*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供的一种含有氧化铝‑碳化硼杂化颗粒的抛光液制备方法,包含如下步骤:S01:使用超声仪,在去离子水中对六方碳化硼粉末进行超声处理,形成碳化硼纳米片分散液;S02:搅拌下,将所述碳化硼纳米片分散液加入到氧化铝的水悬浮液中,搅拌之后加入1wt.%聚乙二醇(PEG)‑400,将混合液继续搅拌之后再超声分散,在超声作用下,PEG‑400充当碳化硼纳米片和氧化铝之间的桥梁,使氧化铝定向吸附在碳化硼纳米片上,形成吸附分散液;S03:在所述吸附分散液中加入3wt.%的pH调节剂,得到含有氧化铝‑碳化硼杂化颗粒的抛光液。本发明可以减少α‑Al2O3颗粒的团聚,降低抛光后工件表面粗糙度;且能够提高α‑Al2O3颗粒与样品表面之间的有效摩擦接触,使得抛光速率大大提高。
搜索关键词: 一种 含有 氧化铝 碳化 硼杂化 颗粒 抛光 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山捷纳电子材料有限公司,未经昆山捷纳电子材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111008615.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top