[发明专利]光源装置、曝光装置以及物品的制造方法在审
| 申请号： | 202111008083.5 | 申请日： | 2021-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN114137798A | 公开（公告）日： | 2022-03-04 |
| 发明（设计）人： | 矢田裕纪;昼间健太郎;中山周吾 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 程晨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及光源装置、曝光装置以及物品的制造方法。降低反射镜内的温度梯度。光源装置具有：发光部；反射镜，反射来自所述发光部的光；保持部件，保持所述反射镜；以及基座，固定所述保持部件，所述保持部件与所述基座接触的接触面积小于所述保持部件与所述反射镜接触的接触面积。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 装置 曝光 以及 物品 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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