[发明专利]一种只电镀加厚并可焊性处理孔后激光制蚀刻图案的制造电路板方法在审

专利信息
申请号: 202111002461.9 申请日: 2021-08-30
公开(公告)号: CN113710011A 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 胡宏宇;刘天宇 申请(专利权)人: 德中(天津)技术发展股份有限公司
主分类号: H05K3/42 分类号: H05K3/42;H05K3/40;H05K3/28
代理公司: 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 代理人: 陈娟
地址: 300392 天津市西青区华苑*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种只电镀加厚并可焊性处理孔后激光制蚀刻图案的制造电路板方法,在已经完成内层线路制作的多层覆铜箔板上涂覆一种疏化学镀活性种子并且抗电镀的有机掩蔽材料,钻孔并只在孔壁上电镀沉积铜至需要的厚度后,再电镀沉积可焊性抗蚀刻金属层,然后,用激光去除非线路区域的掩蔽层露出铜箔表面,蚀刻制造导电图案。本发明利用疏化学镀活性种子并且抗电镀的有机掩蔽材料掩蔽板面,可只在孔壁上沉积金属,电路板金属化孔质量更好以更好地满足电气需求;激光光斑直径根据图案尺寸改变,去除掩蔽材料速度快、一致性好;直接用激光去除材料制造抗镀、抗蚀、阻焊图案,步骤少,可以制造更精细产品,且环境友好。
搜索关键词: 一种 电镀 加厚 可焊性 处理 激光 蚀刻 图案 制造 电路板 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德中(天津)技术发展股份有限公司,未经德中(天津)技术发展股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111002461.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top