[发明专利]一种半导体用冷却盘的清洗方法在审
| 申请号： | 202110982147.5 | 申请日： | 2021-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN113714215A | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;边逸军;王学泽;冯周瑜;罗明浩 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B9/027 | 分类号： | B08B9/027;B08B9/032;B08B3/12;F26B5/04 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 王岩 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种半导体用冷却盘的清洗方法，所述清洗方法包括以下步骤：(1)分别独立地向进液口和出液口通入清洗液；(2)同时向进液口和出液口通入清洗液进行保压；(3)对进液口或出液口进行冲洗；(4)依次进行超声清洗和真空干燥；(5)分别独立地向进液口和出液口进行吹气，清洗完毕；所述清洗方法通过单双向多次清洗，并结合多种清洗手段，彻底清除了冷却盘水道内的废屑，防止废屑在冷却盘使用过程中造成水管道堵塞，损坏冷却设备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 冷却 清洗 方法 | ||
【主权项】：
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