[发明专利]非平滑OPC图形的修正方法在审
| 申请号： | 202110958835.8 | 申请日： | 2021-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN113759670A | 公开（公告）日： | 2021-12-07 |
| 发明（设计）人： | 王聪玉;金晓亮 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/36 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 戴广志 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请涉及半导体集成电路光刻技术领域，具体涉及一种非平滑OPC图形的修正方法。所述非平滑OPC图形的修正方法包括以下步骤：获取OPC图形；识别所述OPC图形的各个实际边缘；判断所述OPC图形的各个实际边缘是否为平滑，确定不平滑的实际边缘为非平滑边缘；计算所述非平滑边缘，偏移对应预设边缘的实际偏移面积；当所述非平滑边缘的实际偏移面积小于预设偏移面积，在所述非平滑边缘处规划平滑的目标边缘，所述目标边缘使得所述OPC图形删减的面积与增加的面积最接近；依照所述目标边缘对所述非平滑边缘进行修正。 | ||
| 搜索关键词： | 平滑 opc 图形 修正 方法 | ||
【主权项】：
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