[发明专利]一种石斛花大豆美肤面膜的制备方法在审
| 申请号： | 202110947460.5 | 申请日： | 2021-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN113425663A | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | 张珍林;陈乃富;韩邦兴;刘东;殷智超;何晓梅;汪学军;邓辉;祁明雪 | 申请（专利权）人： | 皖西学院 |
| 主分类号： | A61K8/9794 | 分类号： | A61K8/9794;A61K8/9789;A61K8/81;A61K8/73;A61K8/41;A61K8/02;A61Q19/00;A61Q19/08;A61Q17/04;A61Q17/00;A61Q19/02;A61P17/10 |
| 代理公司： | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人： | 方琦 |
| 地址： | 237012 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种石斛花大豆美肤面膜的制备方法，涉及日用化妆品领域，面膜液主要由石斛花提取液和大豆提取液、甘油、小分子透明质酸、EDTA二钠、卡波、黄原胶、pH调节剂（三乙醇胺）、尼泊金酯类（少许）、香精类（少许）、去离子水组成；本发明制备的石斛花大豆美肤面膜中，不仅含有美白滋养、抗氧化、抗衰老性等多种功效的石斛花提取液，而且同时含有抗氧化、抗衰老的大豆异黄酮成分，根据协同增效作用，制备出的石斛花大豆美肤面膜能够大大加强抗氧化、抗衰老的功效，滋养皮肤细胞，恢复水润光泽，延缓皮肤衰老，是使用纯天然萃取精华而制的，无污染无公害。使用的甘油、小分子透明质酸还能够增加保湿性，使皮肤更加水润。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 石斛 大豆 面膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
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