[发明专利]一种扩展景深的光场显微成像系统及光学设备有效

专利信息
申请号: 202110919852.0 申请日: 2021-08-11
公开(公告)号: CN113608342B 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 季向阳;张亿;吴嘉敏;戴琼海 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G02B21/00 分类号: G02B21/00;G02B21/04;G02B21/33;G02B21/34;G02B21/36;G02B27/00;G06N3/04
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 张梦瑶
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种扩展景深的光场显微成像系统,包括样本、物镜、微透镜阵列和相机,物镜和微透镜阵列之间设置反射镜和套筒透镜,微透镜阵列和相机之间设置4f系统,利用物镜与样本之间的介质与样本的折射率不匹配,在光路中引入球差,使得不同角度的光线聚焦在样本不同的深度;同时充分利用光场角度的冗余性,使用传统的解卷积算法,达到了扩展光场景深的技术效果,实现了大轴向范围、高分辨率的三维显微成像效果。本发明还公开了一种包含扩展景深的光场显微成像系统的光学设备。
搜索关键词: 一种 扩展 景深 显微 成像 系统 光学 设备
【主权项】:
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