[发明专利]一种低吸收低热畸变薄膜的实现方法有效
| 申请号： | 202110918058.4 | 申请日： | 2021-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN113721313B | 公开（公告）日： | 2022-05-31 |
| 发明（设计）人： | 王胭脂;王志皓;邵建达;张宇晖;陈昌;朱晔新;晋云霞;邵宇川;易葵;贺洪波 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;G02B1/10;C23C14/08;C23C14/02;C23C14/10;C23C14/46;C23C14/58 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种低吸收低热畸变薄膜及其制备方法，包括基础膜系选择、膜系优化、基板的超声清洗、基板的真空离子束清洗、离子束溅射制备薄膜、退火后处理；将膜系分为低吸收控制层和低热畸变控制层两部分分别优化的膜系优化方法，并通过镀膜前的基板处理及镀膜后的退火后处理降低薄膜内部的吸收性缺陷，使用双离子束溅射的沉积方式并通过沉积过程中的参数调控进一步改善薄膜的热畸变。本发明可以在整个工艺流程上获得和保障反射率大于99.995％的高反射膜，同时与普通工艺制备出的薄膜相比吸收降低99％。采用本发明制备出的薄膜在长时间工作下损耗低，具有工艺重复性好、可控性强、可靠性高等优点，适用于引力波探测、激光陀螺等高精度测量和高稳定性光学系统的使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 吸收 低热 畸变 薄膜 实现 方法 | ||
【主权项】：
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