[发明专利]替代同轴三反系统对高光谱成像分系统调试用光学系统有效

专利信息
申请号: 202110896071.4 申请日: 2021-08-05
公开(公告)号: CN113777766B 公开(公告)日: 2022-08-19
发明(设计)人: 李立波;杨莹;李西杰;王爽;邹纯博;张智南 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: G02B17/06 分类号: G02B17/06
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 王杨洋
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种替代同轴三反系统对高光谱成像分系统调试用光学系统,其目的是解决在轨测试之前,现有技术尚无可代替前置物镜,对高光谱成像系统的后续各分系统进行测试的光学系统的技术问题。该系统包括物面a和像面b,及二者间沿光路依次设置的光阑、调焦镜、第一球面反射镜、第二球面反射镜、第三球面反射镜、第四球面反射镜和平面反射镜;调焦镜和第一球面反射镜与原同轴三反系统的调焦镜及其前一片球面反射镜的结构和参数一致;第二球面反射镜、第三球面反射镜和第四球面反射镜的光焦度符号相同,与平面反射镜形成折叠式离轴三反系统代替原同轴三反系统中的其余镜片;物面a位于原同轴三反系统的像面处,像面b模拟无穷远物体作为成像物面。
搜索关键词: 替代 同轴 系统 光谱 成像 分系统 调试 用光
【主权项】:
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