[发明专利]一种玻璃基底双面图形制备方法在审
| 申请号： | 202110867075.X | 申请日： | 2021-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN113608411A | 公开（公告）日： | 2021-11-05 |
| 发明（设计）人： | 庞军星;乔晓光;党康康 | 申请（专利权）人： | 华天慧创科技（西安）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/38;G03F7/42;G03F7/16 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 姚咏华 |
| 地址： | 710018 陕西省西安*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种玻璃基底双面图形制备方法，S1，在玻璃基底第一面上制备薄膜图形，第一面薄膜上的对位标识设置在靠近玻璃基底边沿区域内；S2，在玻璃基底第二面上涂覆第二面薄膜，然后对第二面与对位标识设置区域对应的区域进行去边；然后将对准光线穿过第二面去边区域识别该区域第一面光刻形成的对位标识，对第二面曝光；然后对第二面进行显影，得到具有双面薄膜图形的晶圆。能够通过传统的单面曝光机实现双面图形的制备，且精度高于双面曝光机制备出产品的精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 玻璃 基底 双面 图形 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华天慧创科技（西安）有限公司，未经华天慧创科技（西安）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110867075.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：点胶系统液位测量方法、装置、计算机设备及其存储介质
- 下一篇：微型电池
