[发明专利]一种高熵二硼化物-碳化硼复相陶瓷、制备方法及其应用有效
| 申请号： | 202110866010.3 | 申请日： | 2021-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN113636842B | 公开（公告）日： | 2023-02-10 |
| 发明（设计）人： | 冉松林;王东;丁祥;金星;李庆归 | 申请（专利权）人： | 安徽工业大学科技园有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/563 | 分类号： | C04B35/563;C04B35/622;C04B35/645 |
| 代理公司： | 合肥昊晟德专利代理事务所(普通合伙) 34153 | 代理人： | 王林 |
| 地址： | 243000 安徽省马鞍山市经*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： |
本发明涉及复相陶瓷技术领域，具体涉及一种高熵二硼化物‑碳化硼复相陶瓷、制备方法及其应用；该复相陶瓷包括如下摩尔组分的混合料：过渡金属碳化物(碳化钛、碳化锆、碳化铪、碳化铌、碳化钽、碳化钒、碳化铬、碳化钼、碳化钨)中的5～9种，每种0～1份，硼粉32～60份。所述过渡金属碳化物为其粉末，纯度＞98％，粒度0.5～3μm。所述硼粉纯度＞95％，粒度0.5～3μm。该高熵二硼化物‑碳化硼复相陶瓷维氏硬度Hv5≥20GPa，抗弯强度≥420MPa，断裂韧性≥5.0MPa m |
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| 搜索关键词： | 一种 高熵二硼化物 碳化 硼复相 陶瓷 制备 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
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