[发明专利]一种具有多层电极的静电吸盘在审
| 申请号： | 202110847801.1 | 申请日： | 2021-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN113707594A | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 张巍;马俊峰;朱顺存;张栎方;胡蝶 | 申请（专利权）人： | 浙江新纳陶瓷新材有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683 |
| 代理公司： | 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 | 代理人： | 林君勇 |
| 地址： | 322118 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种具有多层电极的静电吸盘，属于静电吸盘技术领域。一种具有多层电极的静电吸盘，包括本体，所述本体顶部设有电介质层，所述本体底部设有电极孔层，所述电极孔层具有电极孔，所述电介质层与所述电极孔层之间设有缓冲层，相邻的所述缓冲层之间以及位于最下方的所述缓冲层下表面分别设有第一电极层，位于最上方的所述缓冲层上表面设有第二电极层，所述电介质层与所述电极孔层之间设有导电孔，所述导电孔内填充有导电浆料。本发明具有能够形成上下导通的多层电极，增加电极孔到电介质层的距离，使得电极顶针不会直接顶到电介质层，从而能够有效避免陶瓷盘被顶破等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 多层 电极 静电 吸盘 | ||
【主权项】：
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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