[发明专利]一种微纳结构加工方法及系统有效
| 申请号： | 202110845915.2 | 申请日： | 2021-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN113552718B | 公开（公告）日： | 2022-08-02 |
| 发明（设计）人： | 涂成厚;蔡孟强;夏正聪;王强;侯喜哲;李勇男;王慧田 | 申请（专利权）人： | 南开大学 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 杨媛媛 |
| 地址： | 300071*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种微纳结构加工方法及系统。该方法包括：根据微纳结构的形状确定焦平面内的焦斑轨迹；对焦斑轨迹进行离散处理；对每一离散点进行如下处理：确定焦平面坐标系中离散点的方位角以及离散点与焦平面坐标原点的距离；根据离散点的方位角确定输入光场偏振变化的方向矢量与输入光场坐标系x轴的夹角，根据离散点与焦平面坐标原点的距离计算输入光场偏振变化的周期；根据输入光场偏振变化的周期和所述夹角确定相位型全息光栅的透射函数；在空间光调制器上加载遵循透射函数的相位型全息光栅来对离散点进行加工。本发明基于光场波前偏振的动态调控实现焦斑的动态变化，从而实现对特定焦斑轨迹的控制，进而实现了相应微纳结构的加工。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 结构 加工 方法 系统 | ||
【主权项】：
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