[发明专利]基于强化学习的双激光器路径缺陷自适应调整方法有效
申请号: | 202110837604.1 | 申请日: | 2021-07-23 |
公开(公告)号: | CN113442442B | 公开(公告)日: | 2022-05-10 |
发明(设计)人: | 刘林升;王祎;范永刚;崔紫微 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
主分类号: | B29C64/393 | 分类号: | B29C64/393;B33Y50/02;G06N3/04 |
代理公司: | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人: | 温福雪 |
地址: | 116024 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明设计了一种基于强化学习的双激光器路径缺陷自适应调整方法,以强化学习算法Policy Gradients算法为基础,将打印过程图像通过摄像头反馈给程序,并对缺陷与未打印部分进行重新规划,使打印头抬起次数最少,转弯最少,空跳路径最短。本发明利用超声微锻造和在线监测实现缺陷在线检测,根据检测缺陷区域以及原始路径对双激光器剩余路径重新进行协同路径规划,可以大幅提高打印制造质量,提升制件合格率。 | ||
搜索关键词: | 基于 强化 学习 激光器 路径 缺陷 自适应 调整 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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