[发明专利]一种基于深度强化学习的含能化合物分子结构生成方法在审

专利信息
申请号: 202110805227.3 申请日: 2021-07-16
公开(公告)号: CN113707233A 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 徐作英;马文斌;石彦超;林宏;张鹤;杨冠卓 申请(专利权)人: 内蒙合成化工研究所
主分类号: G16C20/20 分类号: G16C20/20;G16C20/70;G16C20/90;G06N3/08;G06N3/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 010076 内蒙*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要: 发明提供一种基于深度强化学习的含能化合物分子结构生成方法,包括如下步骤:建立含能化合物和类含能化合物的SMILES分子结构数据集并生成分子结构词汇表,通过调用分子结构字典对SMILES分子结构进行分词器编码,将SMILES分子结构编码成数字序列;将编码后的类含能化合物数字序列化的分子结构通过循环神经网络进行深度学习,调节超参数得到优化的深度学习预训练模型;调用数字序列化的类含能化合物分子结构与深度学习预训练模型进入循环神经网络进行强化学习,调节超参数得到优化的深度强化学习模型;调用深度强化学习模型,调节超参数控制指纹相似度生成新型含能化合物分子结构,通过分子结构标准化得到结构正确的分子结构,并进行模型效果评价。
搜索关键词: 一种 基于 深度 强化 学习 化合物 分子结构 生成 方法
【主权项】:
暂无信息
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