[发明专利]具有三维相变存储器的三维存储设备有效
| 申请号: | 202110788541.5 | 申请日: | 2019-09-11 |
| 公开(公告)号: | CN113488505B | 公开(公告)日: | 2022-09-30 |
| 发明(设计)人: | 刘峻 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号: | H01L27/24 | 分类号: | H01L27/24;H01L45/00 |
| 代理公司: | 北京永新同创知识产权代理有限公司 11376 | 代理人: | 林锦辉;刘景峰 |
| 地址: | 430074 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 公开了具有3D相变存储器(PCM)的三维(3D)存储设备及用于形成和操作3D存储设备的方法的实施例。在一个示例中,一种3D存储设备包括第一半导体结构,所述第一半导体结构包括外围电路、3D PCM单元阵列、以及包括多个第一键合触点的第一键合层。3D存储设备还进一步包括第二半导体结构,所述第二半导体结构包括3D NAND存储器串阵列和包括多个第二键合触点的第二键合层。3D存储设备还包括第一键合层和第二键合层之间的键合界面。第一键合触点在键合界面处与第二键合触点接触。 | ||
| 搜索关键词: | 具有 三维 相变 存储器 存储 设备 | ||
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





