[发明专利]一种衍射抑制光学元件及其制造方法有效
| 申请号： | 202110783151.9 | 申请日： | 2021-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN113500801B | 公开（公告）日： | 2023-05-30 |
| 发明（设计）人： | 赵辉 | 申请（专利权）人： | 嘉兴驭光光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B29D11/00 | 分类号： | B29D11/00;G02B5/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京方可律师事务所 11828 | 代理人： | 吴艳;郝东晖 |
| 地址： | 314500 浙江省嘉*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种衍射抑制光学元件及其制造方法，所述衍射抑制光学元件包括透明基底和形成在所述透明基底上的多个遮光区域，所述方法包括：提供压印模版；利用压印模版对涂覆于透明基底上的透明材料进行压印，从而在透明材料上形成多个凹槽；以及在压印之后的透明材料上施加吸光材料，使得吸光材料填充在多个凹槽中并且露出其余部位的透明材料。根据本发明实施例，只需要一片压印模版就可以使用微纳米压印复制工艺不断地生产产品，可以实现批量、快速生产，产能易提升；而且，可以避免使用超高平整度玻璃以及昂贵的半导体工艺所需设备，有利于大大降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 衍射 抑制 光学 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
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