[发明专利]一种利用微波等离子体化学气相沉积技术在钽铌酸钾晶体上制备金刚石薄膜的方法有效

专利信息
申请号: 202110756515.4 申请日: 2021-07-05
公开(公告)号: CN113584458B 公开(公告)日: 2023-03-03
发明(设计)人: 赵洪阳;李天蔚;郝建新;马志斌;王旭平 申请(专利权)人: 武汉工程大学
主分类号: C23C16/27 分类号: C23C16/27;C23C16/511
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 张秋燕
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于晶体合成技术领域,具体涉及一种利用微波等离子体化学气相沉积法在钽铌酸钾晶体上制备金刚石薄膜的方法,包括如下步骤:1)将钽铌酸钾晶体置于微波等离子体化学气相沉积装置的腔体中,将腔体抽真空后,通入氢气,调节氢气流量、气压和微波功率,产生等离子体包裹钽铌酸钾晶体以实现对其加热,并调节真空微调阀使腔内气压保持在11kPa‑12kPa范围之内;2)待压强和等离子体状态稳定后,对步骤1)所述腔体内通入甲烷,控制甲烷和氢气的通入流量比,再调节真空微调阀使腔内气压保持在11kPa‑12kPa范围之内;待通入甲烷6‑9h后关闭微波源,待腔体冷却,取出样品,得到在钽铌酸钾晶体上制备的金刚石薄膜。该方法有制备工艺简单,制备金刚石膜质量高,生长速度快等优点。
搜索关键词: 一种 利用 微波 等离子体 化学 沉积 技术 钽铌酸钾 晶体 制备 金刚石 薄膜 方法
【主权项】:
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