[发明专利]基于建立结构参数库的角度复用超表面及设计方法有效
| 申请号： | 202110733594.7 | 申请日： | 2021-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN113589522B | 公开（公告）日： | 2023-03-21 |
| 发明（设计）人： | 李仲阳;万帅;郑国兴;万成伟;李哲;代尘杰;时阳阳;杨睿;王泽静 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00;G02B1/00;B82Y20/00 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 李炜 |
| 地址： | 430072 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了基于建立结构参数库的角度复用超表面及设计方法。所述超表面由多个单元结构阵列于一平面构成；所述单元结构由底层金属反射层、电介质间隔层和顶部金属纳米天线层构成；通过单元结构参数优化，使得单元结构在不同入射角下激发不同的共振模式，以产生不同的振幅和相位响应；通过采集多个在不同角度下产生不同相位和振幅的单元结构的结构参数以构建结构参数库。复用设计方法：通过电磁仿真计算，建立结构参数库；确定角度复用的成像通道以及待显示图像；将不同的单元结构与图像信息对应，有序阵列以实现角度复用的功能。本发明可实现角度复用的全息图像以及纳米印刷图像可以广泛应用于纳米印刷、全息成像等光学领域。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 建立 结构 参数 角度 复用超 表面 设计 方法 | ||
【主权项】：
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