[发明专利]一种光斑取样光纤的加工方法在审
| 申请号： | 202110715852.9 | 申请日： | 2021-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN113463061A | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 侯再红;秦来安;王浩;罗杰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院合肥物质科学研究院 |
| 主分类号： | C23C16/04 | 分类号： | C23C16/04;C23C16/06 |
| 代理公司： | 合肥市上嘉专利代理事务所(普通合伙) 34125 | 代理人： | 郭华俊 |
| 地址： | 230031 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明属于激光测量、光纤传光和光纤加工领域，特别涉及一种光斑取样光纤的加工方法，包括以下步骤；S1、选取传光型短光纤；S2、对光纤镀高反射率膜层；S3、对光纤进行磨砂处理，加工为光学毛面。本发明的优点在于：本发明通过对传光型短光纤的镀膜、磨砂处理，制成一种可安装于激光光斑获取和测量系统迎光前面板的取样光纤单元。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光斑 取样 光纤 加工 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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