[发明专利]基于双栅压调控的高增益石墨烯光电探测器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110692010.6 申请日: 2021-06-22
公开(公告)号: CN113471327B 公开(公告)日: 2022-08-02
发明(设计)人: 伍俊;魏兴战;蒋昊;史浩飞;韩钦;申钧 申请(专利权)人: 中国科学院重庆绿色智能技术研究院;重庆大学
主分类号: H01L31/113 分类号: H01L31/113;H01L31/18
代理公司: 北京元本知识产权代理事务所(普通合伙) 11308 代理人: 黎昌莉
地址: 400714 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明公开了一种基于双栅压调控的高增益石墨烯光电探测器及其制备方法。其中,该探测器包括从上至下地结构为顶层半导体、中间层绝缘介质、底层半导体的衬底;还包括漏极电极、源极电极、顶栅电极和底栅电极,漏极电极与源极电极分别设置在所述顶层半导体上方两端处;还包括在漏极电极与源级电极之间的器件沟道,覆盖在器件沟道上方的离子绝缘层;顶栅电极、底栅电极分别与漏极电极、源极电极连接,还分别与离子绝缘层、底层半导体连接。该探测器利用底栅极调控半导体薄膜内载流子的浓度和分布,同时顶栅通过离子凝胶调控石墨烯内载流子的浓度和类型,将响应波段从可见光拓展至近红外波段,在响应度增大的同时响应时间也得到加快。
搜索关键词: 基于 双栅压 调控 增益 石墨 光电 探测器 及其 制备 方法
【主权项】:
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